المجلة الدولية للعلوم والتقنية

International Science and Technology Journal

ISSN: 2519-9854 (Online)

ISSN: 2519-9846 (Print)

DOI: www.doi.org/10.62341/ISTJ

مجلة علمية محكّمة تهتم بنشر البحوث والدراسات في مجال العلوم التطبيقية، تصدر دورياً تحت إشراف نخبة من الأساتذة

Review on the Effect of Deposition Time on Electrochemical Properties of Films Deposited by PECVD

الباحث(ون):
  • Mustafa Imhmed Elshbo
  • Akram Albarouni
  • Muftah Aburgaiah
  • Azaldin Guzam
  • Omaima Akhubat
المؤسسة:Libyan Authority for Scientific Research, Libyan Center for Plasma Researches Tripoli-Libya
Libyan Advanced Occupational Center for Welding Technologies
المجال:التقنيات الميكانيكية و المواد الهندسية
منشور في:العدد الثالث و الثلاثون - أكتوبر 2023
الملخص
تعد خواص السطح من أهم الخصائص التي يمكن أن تؤثر على السلوك الكهروكيميائي للمواد. في هذه الدراسة تمت مراجعة التناقضات في نتائج الأبحاث المنشورة المتعلقة بتأثير زمن الترسيب. مجال الاهتمام الرئيسي الذي تمت مناقشته هو تأثير وقت الترسيب على الخواص الكهروكيميائية لأسطح المواد. في هذه الدراسة تم أيضًا تسليط الضوء على العوامل الأخرى التي تؤثر في عملية ترسيب أفلام البلازما الرقيقة. خلصت الدراسة إلى أن وقت الترسيب عامل مهم لتحسين الخصائص الكهروكيميائية لهذه الأفلام المترسبة بطريقة البلازما. ولتحقيق الزمن الأمثل المطلوب يجب ضبط العوامل الأخرى المؤثرة في عملية الترسيب. الكلمات الدالة: البلازما; ترسيب البخار الكيميائي ; الخواص الكهروكيميائية ; زمن الترسيب.
Abstract
Surface properties are among the most important properties that can affect the electrochemical behavior of materials. In this study, the contradictions in the results of the published researches that related to effect of deposition time were reviewed. The major area of interest discussed is the effect of deposition time on electrochemical properties of metal surfaces. The other parameters of plasma film deposition process were also highlighted in this study. The study concluded that the deposition time is important factor to improve the electrochemical properties of the deposited films. The other parameters of plasma film deposition process must be controlled to achieve the desired optimal time. Key words: Plasma; Chemical Vapor Deposition; Electrochemical Properties; Deposition Time.